[发明专利]一种离液式硅片湿法刻蚀装置无效
| 申请号： | 201110392004.5 | 申请日： | 2011-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN102586779A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 胡江生 | 申请（专利权）人： | 常州亿晶光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/08 | 分类号： | C23F1/08;C30B33/08;H01L21/67;H01L31/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 213200 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种离液式硅片湿法刻蚀装置，包括蚀刻槽、蚀刻液、吸雾管和吸液滚轮，其中，吸液滚轮等间隔等高度地安装在蚀刻槽内的上端面，蚀刻液的液面高于吸液滚轮外圆的下端面，低于吸液滚轮的轴线，吸雾管设置在两只吸液滚轮之间，且位于蚀刻液之上，吸液滚轮外圆的上端面之下，在吸雾管的外圆上侧面上设有吸气孔，吸雾管与吸风机相连，这样使得硅片四周被污染的面积大幅度缩小，上端面不会受到污染，保证了刻蚀区域的准确性，工艺控制简单，刻蚀效果稳定，刻蚀的合格品大幅度提高，还能进一步改善工作环境，防止蚀刻液雾气对操作者伤害。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离液式 硅片 湿法 刻蚀 装置 | ||
【主权项】：
一种离液式硅片湿法刻蚀装置，其特征是：包括蚀刻槽(1)、蚀刻液(3)、吸雾管(5)和吸液滚轮(6)，吸液滚轮(6)等间隔等高度地安装在蚀刻槽(1)内的上端面，蚀刻液(3)的液面高于吸液滚轮(6)外圆的下端面，低于吸液滚轮(6)的轴线，吸雾管(5)设置在两只吸液滚轮(6)之间，且位于蚀刻液(3)之上，吸液滚轮(6)外圆的上端面之下，在吸雾管(5)的外圆上侧面上设有吸气孔(51)，吸雾管(5)与吸风机相连。
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