[发明专利]一种基于单/双驱动步进扫描的双工件台交换装置与方法有效

专利信息
申请号: 201110377822.8 申请日: 2011-11-12
公开(公告)号: CN102495527A 公开(公告)日: 2012-06-13
发明(设计)人: 谭久彬;马伟;崔继文;金国良 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/67;H01L21/677
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 一种基于单/双驱动步进扫描的双工件台交换装置与方法属于半导体制造装备技术领域,该装置包括基台,位于预对准工位和曝光工位的工件台,在平衡质量块上预设4个Y向直线运动单元和2个X向直线运动单元,同时在预对准工位和曝光工位之间增加了Y向过渡直线运动单元,通过Y向直线运动单元的直线电机定子与Y向过渡直线运动单元的对接完成工件台在预对准区域和曝光区域之间的运动从而实现三节拍换台;另外Y向第一直线电机动子与第一工件台固联,Y向第四直线电机与第二工件台固联;本发明在换台过程中采用三节拍,提高了换台效率,同时本发明具体实施过程中具有运动惯量小,稳定时间短和避免了工件台的抓卡机构,具有结构紧凑和结构刚度大等优点。
搜索关键词: 一种 基于 驱动 步进 扫描 双工 交换 装置 方法
【主权项】:
一种基于单/双驱动步进扫描的双工件台交换方法,其特征在于:完成三节拍换台过程的步骤如下:a)初始工作状态,处于预对准工位的第一硅片台装载新晶圆完毕,处于曝光工位的第二硅片台预对准完毕,之后处于预处理工位的第一硅片台开始进行预对准处理,与此同时处于曝光工位的的第二硅片台开始进行曝光处理,由于完成预对准处理和曝光处理的时间不同,曝光时间相对于预处理时间较长,因此位于预处理工位的第一硅片台完成预对准操作后等待位于曝光工位的第二硅片台完成曝光操作后进行硅片台交换;b)曝光完毕的第二硅片台和Y向第四直线运动单元由X向第二直线运动单元驱动到换台预定位置,此时Y向第二直线电机定子、Y向第四直线电机定子和Y向第一过渡直线电机定子完成对接操作,预对准完毕后处于等待状态的第一硅片台和Y向第一直线运动单元由X向第一直线运动单元驱动到换台预定位置,此时Y向第一直线电机定子、Y向第三直线电机定子和Y向第二过渡直线电机定子完成对接操作;c)曝光完毕的第二硅片台在Y向第四直线电机动子的驱动下沿着由Y向第二直线电机定子、Y向第一过渡直线电机定子和Y向第四直线电机定子运动到预对准区域,预对准完毕的第一硅片台在Y向第一直线电机动子的驱动下沿着由Y向第一直线电机定子、Y向第二过渡直线电机定子和Y向第三直线电机定子运动到曝光区域,完成换台动作;d)曝光完毕的第二硅片台和Y向第二直线运动单元由X向第一直线运动单元驱动到下片工位,此时Y向第二直线电机定子与Y向第一过渡直线电机定子和Y向第四直线电机定子解除对接关系,完成晶圆的下片和上片后,第二硅片台运动到预对准工位,预对准完毕的第一硅片台和Y向第三直线运动 单元由X向第二直线运动单元驱动到曝光工位,此时Y向第一直线电机定子与Y向第二过渡直线电机定子和Y向第三直线电机定子解除对接关系,此时系统回到初始状态,完成一个工作周期。
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