[发明专利]锰铜共掺杂ZnO稀磁半导体材料的制备方法与装置无效
申请号: | 201110363649.6 | 申请日: | 2011-11-17 |
公开(公告)号: | CN102491742A | 公开(公告)日: | 2012-06-13 |
发明(设计)人: | 李瑛;刘聪;姚俊;舒佳武;薄伟强;王世伟;胡业旻;朱明原;金红明 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | C04B35/453 | 分类号: | C04B35/453;C04B35/622 |
代理公司: | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人: | 顾勇华 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及脉冲磁场下锰铜共掺杂ZnO稀磁半导体材料的制备方法与装置,属于磁性半导体材料工艺技术领域。本发明方法是采用锌盐,沉淀剂及共掺杂金属盐溶液为原材料;按照沉淀剂与锌盐的摩尔比为4:1~6:1,共掺杂金属盐与锌盐的摩尔比为1:100~5:100,高压反应釜的填充度为50~80%,在水热法的基础上施加强度为1~80T(特斯拉)的脉冲磁场,在反应温度为120~400℃条件下,在反应釜中反应2~24小时,得到反应生成物,然后将产物在80~85℃下干燥10~12小时,即可得到锰铜共掺杂ZnO稀磁半导体粉体材料。本发明方法制得的锰铜共掺杂ZnO稀磁半导体粉末材料,纯度高、掺杂均匀、微观结构可控,某些工艺参数条件下制备的锰铜共掺杂ZnO稀磁半导体材料具有室温铁磁性。 | ||
搜索关键词: | 锰铜共 掺杂 zno 半导体材料 制备 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种脉冲磁场作用下水热法制备锰铜共掺杂ZnO稀磁半导体材料的方法,其特征在于该方法具有以下的工艺过程和步骤:a.用去离子水将锌盐(氯化锌、硝酸锌或醋酸锌可溶性锌盐)配制成0.95~1.05mol/L的锌离子溶液;配制碱性沉淀剂(氢氧化钠、氢氧化钾或氨水)溶液,浓度为1~2mol/L;配制共掺杂用锰(氯化锰、硝酸锰或醋酸锰可溶性锰盐)离子溶液,及铜(氯化铜、硝酸铜或硫酸铜可溶性铜盐)离子溶液,浓度均为0.02~0.05mol/L;其中沉淀剂与锌的摩尔比为4:1~6:1;b.取一定量的锌离子溶液、沉淀剂溶液、锰离子溶液、铜离子溶液于烧杯中,共掺杂金属离子和锌离子的摩尔比为1:100~5:100,用磁力搅拌器搅拌一段时间;将前躯体溶液移入反应釜中,填充度保持在50~80%,将反应釜密封;c.将反应釜移入加热系统中,在开始升温的同时启动脉冲磁场,磁场强度为1~80T(特斯拉);升温速率为2~10℃/分钟,升温至反应温度120~400℃后保温2~24小时,然后冷却至室温;取出产物进行抽滤分离,用去离子水和无水乙醇各洗涤数次,最后在真空干燥箱中80~85℃干燥10~12小时,即可得到锰铜共掺杂ZnO稀磁半导体粉体材料。
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