[发明专利]基于激光掺杂制备发射极的n型晶体硅太阳电池的制备方法无效

专利信息
申请号: 201110357794.3 申请日: 2011-11-11
公开(公告)号: CN102368510A 公开(公告)日: 2012-03-07
发明(设计)人: 梁宗存;叶小帅;朱彦斌;沈辉 申请(专利权)人: 中山大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 代理人: 罗毅萍
地址: 520006 广东省广州市大*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种基于激光掺杂制备发射极的n型太阳电池的制备方法,该方法是在旋涂有硼酸的n型基体上用全激光面扫描的方法制备发射极,随后采用Al2O3/SiO2叠层介质膜钝化电池前后表面,前表面镀SiNx减反膜,背面采用激光烧蚀技术形成局域开孔,最后用常规丝网印刷和烧结的方法形成电极并制成电池。本发明方法工序简单、成本低、利于生产高效率的太阳电池,可以大规模化生产。
搜索关键词: 基于 激光 掺杂 制备 发射极 晶体 太阳电池 方法
【主权项】:
根据权利要求1所述的基于激光掺杂制备发射极的n型太阳电池的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)对晶体硅片进行清洗制绒,在该晶体硅片前表面涂敷硼酸;(2)在涂有硼酸的晶体硅片的前表面利用激光面扫描的方法制成电池的P‑N结,并清洗;(3)采用Al2O3/SiO2叠层介质膜钝化电池前后表面;(4)在电池的前表面镀SiNx减反膜,电池背面采用激光烧蚀技术形成局域开孔;(5)采用丝网印刷制电极及烧结测试,完成电池的制备过程。
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