[发明专利]基于UV曝光形成取向膜区域的方法及系统无效
| 申请号： | 201110357645.7 | 申请日： | 2011-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN102520551A | 公开（公告）日： | 2012-06-27 |
| 发明（设计）人： | 宋玉 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人： | 胡海国 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种基于UV曝光形成取向膜区域的方法及系统，其方法包括：在基板上涂布PI液并形成取向膜，取向膜覆盖基板上预设的取向膜区域；将根据预设的取向膜区域制作的掩膜板设置于取向膜上，使掩膜板遮蔽预设的取向膜区域；通过UV光曝光剥离基板上位于预设的取向膜区域以外的取向膜；撤去掩膜板，在预设的取向膜区域留下取向膜。本发明可以有效改善现有的取向膜列印机根据设计的取向膜区域规则涂布取向膜，在形成取向膜区域时产生印刷偏移、锯齿状的边缘不均以及膜厚不均区域等缺陷，提高了取向膜区域的定位精度以及取向膜的质量，进而提高液晶显示装置的图像质量特性。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 uv 曝光 形成 取向 区域 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种基于紫外光UV曝光形成取向膜区域的方法，其特征在于，包括以下步骤：在基板上涂布PI液并形成取向膜，所述取向膜覆盖所述基板上预设的取向膜区域；将根据所述预设的取向膜区域制作的掩膜板设置于所述取向膜上方，使所述掩膜板遮蔽所述预设的取向膜区域；通过UV光曝光剥离所述基板上位于所述预设的取向膜区域以外的取向膜；撤去所述掩膜板，在所述预设的取向膜区域留下取向膜。
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