[发明专利]曝光装置、曝光方法以及显示用面板基板的制造方法无效
| 申请号： | 201110356087.2 | 申请日： | 2011-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN102540755A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 手冢秀和;林知明;吉田稔 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高科技 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 使夹具与多个光束照射装置(20)相对地移动，所述多个光束照射装置(20)包括：供给光束的照明光学系统(20c)；空间光调制器(25)，将排列于两个方向的多个面镜的角度予以变更，从而对光束进行调制；驱动电路(27)，基于描绘数据来驱动空间光调制器；照射光学系统(20b)，照射出经空间光调制器(25)调制的光束，借由来自多个光束照射装置的多条光束来对基板进行扫描，在基板上描绘出图案。根据各光束照射装置的空间光调制器的面镜的动作角度的不均，对向各光束照射装置的空间光调制器供给的光束的入射角度进行调节。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 以及 显示 面板 制造 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，包括：夹具，支撑着涂布有光刻胶的基板；多个光束照射装置，具有供给光束的照明光学系统、空间光调制器、驱动电路、及照射光学系统，所述空间光调制器将排列于两个方向的多个面镜的角度予以变更，从而对光束进行调制，所述驱动电路基于描绘数据来将所述空间光调制器予以驱动，所述照射光学系统照射出经所述空间光调制器调制的光束；以及移动单元，使所述夹具与所述多个光束照射装置相对地移动，借由所述移动单元来使所述夹具与所述多个光束照射装置相对地移动，借由来自所述多个光束照射装置的多条光束来对基板进行扫描，在所述基板上描绘出图案，所述曝光装置的特征在于：各光束照射装置包括调节单元，该调节单元根据所述各光束照射装置的所述空间光调制器的面镜的动作角度的不均，对向所述各光束照射装置的所述空间光调制器供给的光束的入射角度进行调节。
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