[发明专利]基于归一化最速下降法光刻配置参数的优化方法有效
申请号: | 201110353893.4 | 申请日: | 2011-11-09 |
公开(公告)号: | CN102346380A | 公开(公告)日: | 2012-02-08 |
发明(设计)人: | 李艳秋;郭学佳 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 李爱英;杨志兵 |
地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种基于归一化最速下降法光刻配置参数的优化方法,具体步骤为:确定欲优化的n种光刻配置参数,确定用于评价光刻性能的m种光刻性能评价指标yj,获取最速下降方向,并对光刻配置参数进行归一化,针对光归一化后的刻配置参数{xi}k,在其所对应的变化范围{[ui,vi]}k内,沿其对应的最速下降方向{di}k进行一维搜索,得到该方向最小的F值,记为Fmin,获取Fmin对应的光刻配置参数{xi}k,并将{xi}k作为下一次循环的光刻配置参数,当循环次数是否达最大或满足搜索精度时,结束优化。本发明统筹考虑各种光刻评价指标,通过构造具有多种光刻性能评价指标的评价函数,实现对优化结果进行评价,因此使得优化后的光刻配置参数具有很好的光刻性能。 | ||
搜索关键词: | 基于 归一化 下降 光刻 配置 参数 优化 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于归一化最速下降法光刻配置参数的优化方法,其特征在于,具体步骤为:步骤101、确定欲优化的n种光刻配置参数,针对每一种光刻配置参数选定一初始值构成1×n维矩阵{si}1={s1,s2,L,sn}1,i={1,2,L,n};确定每种光刻配置参数的变化范围{si∈[ai,bi]}={[a1,b1],[a2,b2]L,[an,bn]},确定每种光刻配置参数用于求解差商的归一化差值{Δxi∈(0,1]},其中|Δxi|<<1;给定优化精度允许误差ε>0,最大一维搜索次数kmax,并令循环次数k=1;步骤102、确定用于评价光刻性能的m种光刻性能评价指标yj,j={1,2,L,m},并构造光刻性能综合评价函数
其中γj为针对各光刻性能评价指标设定的比重值;步骤103、对循环次数k进行判断,若k≤kmax,则进入步骤104,若k>kmax,则进入步骤109;步骤104、将光刻配置参数{si}k归一化,即令
即集合{xi}k中的每一元素的范围都在0至1之间;步骤105、针对光刻配置参数{xi}k计算其差商,获取最速下降方向{di}k,{ d i } k = { - ▿ f ( { x i } k ) } k = { - F ( { x i } k ) - F ( { { x i } k - Δ x i } ) { Δ x i } } k , ]]> {di}k为1×n维矩阵;;步骤106、对‖{di}k‖进行判断,当判定‖{di}k‖≤ε,进入步骤107,否则进入步骤109,其中‖‖为取模运算;步骤107、针对光刻配置参数{xi}k,根据其对应的最速下降方向{di}k更新其所对应的一维搜索变化范围为{xi∈[ui,vi]}k,其中{[ui,vi]}k中每一元素的范围都在0至1之间;步骤108、针对光刻配置参数{xi}k,在其所对应的变化范围{[ui,vi]}k内,沿其对应的最速下降方向{di}k进行一维搜索,得到该方向最小的F值,记为Fmin,获取Fmin对应的光刻配置参数{xi}k,并将{xi}k作为下一次循环的光刻配置参数{si}k,令k=k+1,返回步骤103。步骤109、输出最优光刻配置参数{xi}k,以及{xi}k所对应的F值。
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