[发明专利]一种曝光投影物镜有效
| 申请号： | 201110353594.0 | 申请日： | 2011-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN103105666A | 公开（公告）日： | 2013-05-15 |
| 发明（设计）人： | 武珩 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G02B13/22 | 分类号： | G02B13/22;G02B13/00;G02B1/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明提出一种曝光投影物镜，把掩模的图像聚焦成像在硅片上，从掩模开始沿光轴依次包括：一具有正光焦度的第一透镜组G11；一具有负光焦度的第二透镜组G12；一具有正光焦度的第三透镜组G13；一具有正光焦度的第四透镜组G14；所述第四透镜组G14内包含一孔径光阑AS；以及一具有正光焦度的第五透镜组G15；其中，所述各透镜组满足以下关系：-0.3 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 投影 物镜 | ||
【主权项】：
一种曝光投影物镜，把掩模的图像聚焦成像在硅片上，从掩模开始沿光轴依次包括：一具有正光焦度的第一透镜组G11；一具有负光焦度的第二透镜组G12；一具有正光焦度的第三透镜组G13； 一具有正光焦度的第四透镜组G14；所述第四透镜组G14内包含一孔径光阑AS；以及一具有正光焦度的第五透镜组G15；其中，所述各透镜组满足以下关系：‑0.3
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