[发明专利]一种制备太阳能级多晶硅的方法无效
申请号: | 201110345774.4 | 申请日: | 2011-11-06 |
公开(公告)号: | CN102502648A | 公开(公告)日: | 2012-06-20 |
发明(设计)人: | 李艳平;张宗凡;董芸;陈洪来 | 申请(专利权)人: | 云南省化工研究院 |
主分类号: | C01B33/033 | 分类号: | C01B33/033 |
代理公司: | 昆明合众智信知识产权事务所 53113 | 代理人: | 张媛德;范严生 |
地址: | 650228 *** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | 一种制备太阳能级多晶硅的方法涉及化工和冶金领域,特别涉及采用金属还原四氟化硅气体制备太阳能级多晶硅的方法,本发明制备工艺步骤包括:a.还原反应;b.熔融分离。本发明以金属钠还原四氟化硅法制备太阳能级多晶硅料,纯度可以达到6N以上,其每千克多晶硅生产成本可控制在15~20美元/千克。相比改良西门子法和硅烷法制多晶硅,具有工艺及配套设备简单、能耗低、无有毒气体排放、生产和投资成本少等优点。同时,以四氟化硅为主要原料,磷肥副产氟、硅资源均可得到有效利用,是一条磷复肥企业副产氟硅资源走“精细化、高附加”思路的有效途径。 | ||
搜索关键词: | 一种 制备 太阳 能级 多晶 方法 | ||
【主权项】:
一种制备太阳能级多晶硅的方法,其特征在于,其制备工艺步骤包括:a.还原反应:将金属钠与四氟化硅气体置于还原反应器中进行高温还原反应,四氟化硅气体压力为0.01~0.5MPa,还原反应器分为上部反应区和下部熔融区,控制上部反应区温度为800~1300℃,下部熔融区温度为1450~1650℃,反应生成的硅(Si)和氟化钠(NaF)均从反应器底部熔融区以熔融液态连续排料;b.熔融分离:步骤a所得反应产物为氟化钠和硅的混合物,混合物进入熔融分离器中通过熔融分层使反应产物连续分离,其中熔融硅从下层连续排出,熔融氟化钠从上层连续排出,熔融分离温度为1450~1650℃,分离后的硅即作为太阳能级多晶硅料,副产品氟化钠可作为氟化工原料。
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