[发明专利]凸出结构与形成凸出结构的方法有效
| 申请号： | 201110340066.1 | 申请日： | 2011-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN102779841A | 公开（公告）日： | 2012-11-14 |
| 发明（设计）人： | 郭锦德;陈逸男;刘献文 | 申请（专利权）人： | 南亚科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/423 | 分类号： | H01L29/423;H01L21/28 |
| 代理公司： | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人： | 江耀纯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种位于基材上，具有小于传统光刻技术极小尺寸的凸出结构，其包含一基材，以及位于基材上的一凸出物。凸出物具有一顶面、一底面与介于顶面与底面间的一倾斜侧壁。顶面具有不大于32nm顶宽的极小尺寸。 | ||
| 搜索关键词： | 凸出 结构 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种凸出结构，其特征在于，包含：基材；以及凸出物，位在所述基材上并具有顶面、底面和倾斜侧壁，其中所述顶面具有不大于32nm的顶宽。
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