[发明专利]凸出结构与形成凸出结构的方法有效
| 申请号： | 201110340045.X | 申请日： | 2011-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN102779835A | 公开（公告）日： | 2012-11-14 |
| 发明（设计）人： | 郭锦德;陈逸男;刘献文 | 申请（专利权）人： | 南亚科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/06 | 分类号： | H01L29/06;H01L21/311 |
| 代理公司： | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人： | 江耀纯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种具有小于传统光刻技术极限极小尺寸的立方体凸出结构，包含基材，以及位于基材上的凸出物。凸出物具有圆角化的垂直侧壁、凸出宽度与凸出长度，其中凸出宽度与凸出长度的至少一者，具有不大于33nm极小尺寸。 | ||
| 搜索关键词： | 凸出 结构 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种凸出结构，其特征在于，包含：基材；以及凸出物，位于所述基材上并具有一圆角化的垂直侧壁、一凸出宽度与一凸出长度，其中所述凸出宽度与所述凸出长度其中的至少一者具有不大于33nm。
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