[发明专利]成膜装置和成膜方法无效
| 申请号： | 201110339500.4 | 申请日： | 2011-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN102465276A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 中川善之;中野真吾;福田直人 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/24 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 钱亚卓 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种成膜装置和成膜方法，可精确地控制形成在成膜对象物上的薄膜的厚度。成膜装置(1)包括用于在预定成膜待机位置与预定成膜位置之间移动成膜源(21)的移动部(成膜源单元(20))，此移动部保持测量用石英振荡器(22)和校正用石英振荡器(23)以维持它们相对于成膜源(21)的相对位置。在成膜对象物上形成膜的成膜步骤当中执行利用校正用石英振荡器(23)的监测值校正测量用石英振荡器的监测值的校正步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种用于在成膜对象物上形成成膜材料的膜的成膜装置，包括：成膜源，用于加热所述成膜材料以及用于释放出所述成膜材料的蒸气；移动部，用于使所述成膜源在预定成膜待机位置与预定成膜位置之间移动；测量用石英振荡器，用于监测从所述成膜源释放出的所述成膜材料的蒸气的量；以及校正用石英振荡器，用于校正所述测量用石英振荡器的测量值，其中，所述移动部保持所述测量用石英振荡器和所述校正用石英振荡器。
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