[发明专利]感光性间隙物及液晶显示器的制作方法与阵列基板无效

专利信息
申请号: 201110328905.8 申请日: 2011-10-26
公开(公告)号: CN103033993A 公开(公告)日: 2013-04-10
发明(设计)人: 王怡凯;胡堂祥;杨宗桦;彭玉容;张智浩 申请(专利权)人: 纬创资通股份有限公司
主分类号: G02F1/1339 分类号: G02F1/1339;G02F1/1333;G02F1/1362;G03F7/00;H01L27/02;H01L21/77
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开一种感光性间隙物及液晶显示器的制作方法以及具有感光性间隙物的阵列基板。对基板上的感光材料层进行至少一次曝光制作工艺、显影制作工艺以及烘烤制作工艺以制作感光性间隙物,其中至少一次曝光制作工艺包括背面曝光制作工艺。基板具有透光区与不透光区以在背面曝光制作工艺后将感光材料层定义出第一区块与第二区块。显影制作工艺至少移除第二区块。对第一区块进行正面曝光制作工艺。烘烤制作工艺使感光材料层的第一区块固化为感光性间隙物。
搜索关键词: 感光性 间隙 液晶显示器 制作方法 阵列
【主权项】:
一种感光性间隙物的制作方法,包括:在一基板上形成一感光材料层,该基板具有至少一不透光区以及至少一透光区;对该感光材料层进行至少一次曝光制作工艺,该至少一次曝光制作工艺包括一背面曝光制作工艺,使光线由该基板远离该感光材料层的一侧朝向该感光材料层照射以在该感光材料层中定义出位于该至少一不透光区上的至少一第一区块以及位于该至少一透光区上的至少一第二区块;进行一显影制作工艺,以至少移除该第二区块;对该至少一第一区块进行一正面曝光制作工艺;以及进行一烘烤制作工艺,使该感光材料层的该至少一第一区块固化为感光性间隙物。
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