[发明专利]一种多晶硅薄膜的制造方法无效
| 申请号： | 201110307025.2 | 申请日： | 2011-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN102505139A | 公开（公告）日： | 2012-06-20 |
| 发明（设计）人： | 史亮亮 | 申请（专利权）人： | 广东中显科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B1/02 | 分类号： | C30B1/02;C30B29/06;H01L21/324 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人： | 王勇 |
| 地址： | 528225 广东省佛山*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种多晶硅薄膜的制造方法，包括：沉积非晶硅；利用激光扫描该非晶硅，使非晶硅初步晶化；对初步晶化的非晶硅退火完成晶化。另外，在激光扫描非晶硅时，还可以在非晶硅上放置掩模。本发明提供的方法可形成具有规则晶粒结构的多晶硅薄膜，均匀性较好。退火温度可以降低至600℃以下使之可以应用于廉价的玻璃衬底。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多晶 薄膜 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种多晶硅薄膜的制造方法，包括：沉积非晶硅；利用激光扫描该非晶硅，使非晶硅初步晶化；对初步晶化的非晶硅退火完成晶化。
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