[发明专利]成膜装置和成膜方法有效
申请号: | 201110303041.4 | 申请日: | 2011-09-29 |
公开(公告)号: | CN102433547A | 公开(公告)日: | 2012-05-02 |
发明(设计)人: | 加藤寿;竹内靖 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供成膜装置和成膜方法。成膜装置包括:载置基板的旋转台;第一反应气体供给部,配置在容器内的第一区域,供给第一反应气体;第二反应气体供给部,配置在沿旋转台旋转方向与第一区域分开的第二区域,供给第二反应气体;与第一区域及第二区域相连通地设置的第一排气口及第二排气口;分离气体供给部,配置在第一区域与第二区域之间,供给用于将第一反应气体和第二反应气体分离的分离气体;凸状部,形成用于在分离气体供给部两侧较高地维持与旋转台之间的空间的压力而能分离第一区域和第二区域的包括顶面在内的分离区域;块构件,在分离区域配置在旋转台与容器内侧面之间,在分离区域的旋转方向上游侧在旋转台与容器内侧面之间形成空间。 | ||
搜索关键词: | 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种成膜装置,其在容器内向基板按顺序供给彼此反应的至少两种反应气体,层叠该两种反应气体的反应生成物的层而形成薄膜,其中,该成膜装置包括:旋转台,其能旋转地设在上述容器内,用于载置基板;第一反应气体供给部,其配置在上述容器内的第一区域内,沿与上述旋转台的旋转方向交叉的方向延伸,用于向上述旋转台供给第一反应气体;第二反应气体供给部,其配置在沿上述旋转台的上述旋转方向与上述第一区域分开的第二区域内,沿与上述旋转方向交叉的方向延伸,用于向上述旋转台供给第二反应气体;第一排气口,其与上述第一区域相连通地设置;第二排气口,其与上述第二区域相连通地设置;分离气体供给部,其配置在上述第一区域与上述第二区域之间,供给用于将上述第一反应气体和上述第二反应气体分离的分离气体;凸状部,其具有顶面,在上述分离气体供给部的两侧在该顶面与上述旋转台之间形成供上述分离气体流动的空间,该凸状部用于形成比上述第一区域和上述第二区域中的压力高地维持上述空间内的压力而能分离上述第一区域和上述第二区域的包括该顶面在内的分离区域;块构件,在上述分离区域中,该块构件设在上述旋转台与上述容器的内侧面之间,该块构件配置为在上述分离区域的上述旋转方向的上游侧在上述旋转台与上述容器的内侧面之间形成有空间。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的