[发明专利]大尺寸晶圆级纳米图形化蓝宝石衬底压印装置及方法

摘要

本发明公开了一种大尺寸晶圆级纳米图形化蓝宝石衬底压印装置及方法。其方法为：(1)在蓝宝石衬底之上沉积硬掩模层和旋涂纳米压印用抗蚀剂；(2)采用滚对平面纳米压印工艺和装置图形化抗蚀剂；(3)抗蚀剂图形转移到硬掩模层和蓝宝石衬底；(4)去除抗蚀剂和硬掩模层，并清洗图形化后的蓝宝石衬底。本发明还可用于碳化硅、硅、砷化镓、氮化镓等其它材料衬底的图形化制造，以及太阳能电池、燃料电池双极板、微光学透镜、微流控器件等微纳结构的制造。具有结构简单、成本低、生产率高、压印面积大、适合规模化制造的特点。

主权项

一种大尺寸晶圆级纳米图形化蓝宝石衬底压印装置，其特征是，它包括：承载蓝宝石衬底的在x y方向运动的工作台，在工作台上设有涂铺了抗蚀剂的蓝宝石衬底，在蓝宝石衬底上方设有沿z轴纵向压印用的滚轮型压印模具，滚轮型压印模具与压印机构连接；同时与滚轮型压印模具相配合的还设有曝光用的紫外光光源。