[发明专利]等离子体处理装置及处理方法

摘要

本发明提供等离子体处理装置和等离子体处理方法。在电感耦合型等离子体处理装置中，减少高频供电部(特别是匹配器)内的功率损失，提高等离子体生成效率。该电感耦合型等离子体处理装置在同轴天线组(54)与变压器部(68)之间形成多个独立的闭环次级电路(96)、(98)，通过使可变电容器(64)、(66)的静电电容变化，能够分别任意且独立地控制在同轴天线组(54)的内侧天线(58)和外侧天线(60)中分别流动的次级电流(I2A)、(I2B)，能在径向自由地控制半导体晶片(W)上的等离子体密度分布。

主权项

一种等离子体处理装置，其特征在于，具有：具有电介质的窗的处理容器；在所述处理容器内保持被处理基板的基板保持部；为了在所述基板实施期望的等离子体处理而向所述处理容器内供给期望的处理气体的处理气体供给部；为了在所述处理容器内通过电感耦合生成处理气体的等离子体而设置在所述电介质窗之外的多个天线；高频供电部，其向所述多个天线供给适合于所述处理气体的高频放电的频率的高频电力；设置在所述高频供电部的终端的初级线圈；多个次级线圈，该多个次级线圈的每一个能够通过电磁感应分别与所述初级线圈耦合，各自与所对应的所述天线电连接而形成闭环的次级电路；和在所有所述次级电路设置的电容器。