[发明专利]一种用于总义齿和局部义齿颌记录的基托型蜡无效
| 申请号： | 201110297799.1 | 申请日： | 2011-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN102366334A | 公开（公告）日： | 2012-03-07 |
| 发明（设计）人： | 邢旭东 | 申请（专利权）人： | 邢旭东 |
| 主分类号： | A61C13/34 | 分类号： | A61C13/34 |
| 代理公司： | 天津盛理知识产权代理有限公司 12209 | 代理人： | 董一宁 |
| 地址： | 301900*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 一种用于总义齿和局部义齿颌记录的基托型蜡，由上颌基托型蜡、下颌基托型蜡、上颌蜡堤和下颌蜡堤组成；上颌基托型蜡和下颌基托型蜡均是按人类口腔解剖形态制成的弓槽形结构，上颌蜡堤和下颌蜡堤均是按人类牙列生理解剖形态制成的弓形结构。使用该型蜡可使临床采集颌记录操作简单，取得的颌记录信息准确全面，从而使后期制作的修复义齿更精确，配戴舒适而美观。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 义齿 局部 记录 基托型蜡 | ||
【主权项】：
一种用于总义齿和局部义齿颌记录的基托型蜡，其特征在于：由上颌基托型蜡、下颌基托型蜡、上颌蜡堤和下颌蜡堤组成；上颌基托型蜡和下颌基托型蜡均是按人类口腔解剖形态制成的弓槽形结构，上颌蜡堤和下颌蜡堤均是按人类牙列生理解剖形态制成的弓形结构。
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