[发明专利]一种Mn掺杂AlN稀磁半导体纳米棒阵列的制备方法无效

专利信息
申请号: 201110297036.7 申请日: 2011-09-30
公开(公告)号: CN102304699A 公开(公告)日: 2012-01-04
发明(设计)人: 吴荣;娄阳;姜楠楠;任银拴;简基康;李强;李锦;孙言飞 申请(专利权)人: 新疆大学
主分类号: C23C16/34 分类号: C23C16/34
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 830046 新疆维吾*** 国省代码: 新疆;65
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摘要: 发明公开了一种Mn掺杂AlN稀磁半导体纳米棒阵列的制备方法。本方法采用无催化剂辅助下化学气相沉积法,以无水AlCl3、无水MnCl2和NH3气分别作为Al源、Mn源和N源,在硅衬底上得到了掺杂Mn的AlN纳米棒阵列。所制备的AlN:Mn纳米棒阵列具有室温铁磁性,可以应用于纳米级电子和光电子器件上,也可以应用于以自旋为基础的多功能器件上,因而它具有重要的研究价值和广阔的应用前景。本方法不使用任何催化剂,制备工艺简单,对设备的要求低,易于推广。
搜索关键词: 一种 mn 掺杂 aln 半导体 纳米 阵列 制备 方法
【主权项】:
一种Mn掺杂AlN稀磁半导体纳米棒阵列的制备方法:采用无催化剂辅助下化学气相沉积法,其特征在于, 无水AlCl3、无水MnCl2和NH3气分别作为Al源、Mn源和N源,以硅片和石墨纸作为收集产物的衬底,表面没有催化剂;在硅衬底上得到掺杂Mn的AlN纳米棒阵列;具体包括以下步骤:先将盛有无水AlCl3(纯度98%)的坩埚置于水平管式炉的上游距入口10 cm处,盛有无水MnCl2(纯度99.99%)的坩埚放在距Al源坩埚20 cm的下游;二者按照质量比7:1称重;再使用机械泵和扩散泵对系统抽真空,使炉内真空度抽至9×10‑3 Pa以下;然后通入100 cm3/min(sccm)的Ar气并对系统以8 ℃/min的速度开始加热;当温度达到900 ℃时,通入流量为200 sccm的NH3气,反应4小时;最后关掉氨气,保持氩气流量不变,自然冷却至室温,在硅衬底上得到掺杂Mn的AlN纳米棒阵列。
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