[发明专利]一种ZnS基底1064nm、8μm～10μm光波段大入射角增透膜及ZnS光窗

摘要

本发明涉及光学器件及其加工技术领域，具体公开了一种以ZnS为基底，在1064nm和8μm～10μm两个光波段具有大入射角高透过率的增透膜，同时还公开了一种采用该增透膜的ZnS光窗。该增透膜由六个膜层组成，第1、3、5膜层的膜料为YbF3，第2、4、6膜层的膜料为ZnS，第1膜层、第2膜层、第3膜层、第4膜层、第5膜层、第6膜层的厚度依次为73.09nm±0.8nm、67.77nm±0.7nm、528.47nm±5.3nm、67.84nm±0.7nm、275.82nm±2.8nm、243.34nm±2.5nm。本发明提供的光窗在1064nm光波段附近，在30°到70°入射角范围内，其透过率为78%～97%；在8μm～10μm光波段，在30°到70°入射角范围内，其透过率为74.5%～97%。

主权项

一种ZnS基底1064nm、8μm～10μm光波段大入射角增透膜，其特征在于，该增透膜由六个膜层组成，增透膜的结构为：第1膜层/第2膜层/第3膜层/第4膜层/第5膜层/第6膜层，第1膜层镀制于ZnS基底表面，第1膜层、第3膜层和第5膜层的膜料均为YbF3，第2膜层、第4膜层和第6膜层的膜料均为ZnS，第1膜层的膜层厚度为73.09nm±0.8nm，第2膜层的膜层厚度为67.77nm±0.7nm，第3膜层的膜层厚度为528.47nm±5.3nm，第4膜层的膜层厚度为67.84nm±0.7nm，第5膜层的膜层厚度为275.82nm±2.8nm，第6膜层的膜层厚度为243.34nm±2.5nm；该增透膜的总物理厚度为1235.35nm±12.8nm。