[发明专利]光学模块及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201110290686.9 申请日: 2011-09-22
公开(公告)号: CN102411169A 公开(公告)日: 2012-04-11
发明(设计)人: 石井理 申请(专利权)人: 日本电气株式会社
主分类号: G02B6/12 分类号: G02B6/12;G02B6/13;G02B6/42
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 李晓冬
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 本公开提供了一种光学模块及其制造方法。光学模块具有包括干涉计的衬底和连接到结合区域的托架,结合区域是衬底的底部表面的部分区域,其中,与衬底上的由干涉计所占据的区域相对应的底部表面区域不被包括在结合区域中。
搜索关键词: 光学 模块 及其 制造 方法
【主权项】:
一种光学模块,包括:衬底,包括干涉计;以及托架,其连接到结合区域,所述结合区域是所述衬底的底部表面的部分区域,其中与所述衬底上的由所述干涉计所占据的区域相对应的底部表面区域不被包括在所述结合区域中。
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