[发明专利]产生中性粒子束的装置及方法有效
申请号: | 201110288064.2 | 申请日: | 2011-09-26 |
公开(公告)号: | CN102290314A | 公开(公告)日: | 2011-12-21 |
发明(设计)人: | 席峰;李勇滔;李楠;张庆钊;夏洋 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H05H3/00 |
代理公司: | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人: | 刘丽君 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种产生中性粒子束的装置,包括反应腔体、放置芯片的载片台、等离子源、上网板,所述上网板、等离子源和所述载片台设置在所述反应腔体内部,所述上网板设置在所述等离子源上方,所述等离子源和所述载片台之间依次设置有中网板、绝缘板及下网板;所述上网板和所述下网板分别连接一直流偏压,所述中网板接地。本发明还公开一种产生中性粒子束的方法。根据提供的产生中性粒子束的装置及方法,使正、负离子等不同粒子都能实现中性化提高了离子的中性化效率,保证了混合气体中的不同种离子都会产生相应的刻蚀作用,适应了不同气体组合,以满足不同刻蚀工艺的要求。 | ||
搜索关键词: | 产生 中性 粒子束 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种产生中性粒子束的装置,包括反应腔体、放置芯片的载片台、等离子源、上网板,所述上网板、等离子源和所述载片台设置在所述反应腔体内部,其特征在于:所述上网板设置在所述等离子源上方,所述等离子源和所述载片台之间依次设置有中网板、绝缘板及下网板;所述上网板和所述下网板分别连接一直流偏压,所述中网板接地。
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