[发明专利]在纳米孔表面和孔内制备纳米间隙电极的方法有效
申请号: | 201110285898.8 | 申请日: | 2011-09-23 |
公开(公告)号: | CN102445480A | 公开(公告)日: | 2012-05-09 |
发明(设计)人: | 叶晓峰;刘丽萍;吴宏文;孔婧琳;陆祖宏;刘全俊;易红 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | G01N27/30 | 分类号: | G01N27/30;B82Y40/00;B82Y15/00 |
代理公司: | 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 | 代理人: | 周静 |
地址: | 211189 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及在纳米孔表面和孔内制备纳米间隙电极的方法,可以实现二维双通道同时检测分子过孔的信号变化,提高纳米孔测序的精确度。所述在纳米孔表面制备纳米间隙电极的方法是:在基材表面形成线宽度为微米级金属线,将金属线刻蚀成线宽度为纳米级,然后在对应于纳米级线宽的金属线位置,在基材上刻蚀出贯穿的纳米孔,同时蚀断金属线,从而直接在纳米孔孔口形成表面纳米间隙电极。作为本发明的改进,在基材表面形成线宽度为微米级金属线,将金属线刻蚀至线宽度为10-50nm,然后在金属线上刻蚀,形成相对的电极,并在基材上对应于纳米间隙的位置刻蚀出贯穿的纳米孔,最后使金属线向纳米孔边缘生长,从而在纳米孔孔口形成表面纳米间隙电极。 | ||
搜索关键词: | 纳米 表面 制备 间隙 电极 方法 | ||
【主权项】:
一种在纳米孔表面制备纳米间隙电极的方法,其特征在于,在基材表面形成线宽度为微米级金属线,将金属线刻蚀成线宽度为纳米级,然后在对应于纳米级线宽的金属线位置,在基材上刻蚀出贯穿的纳米孔,同时蚀断金属线,从而直接在纳米孔孔口形成表面纳米间隙电极。
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