[发明专利]在纳米孔表面和孔内制备纳米间隙电极的方法有效

专利信息
申请号: 201110285898.8 申请日: 2011-09-23
公开(公告)号: CN102445480A 公开(公告)日: 2012-05-09
发明(设计)人: 叶晓峰;刘丽萍;吴宏文;孔婧琳;陆祖宏;刘全俊;易红 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: G01N27/30 分类号: G01N27/30;B82Y40/00;B82Y15/00
代理公司: 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 代理人: 周静
地址: 211189 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及在纳米孔表面和孔内制备纳米间隙电极的方法,可以实现二维双通道同时检测分子过孔的信号变化,提高纳米孔测序的精确度。所述在纳米孔表面制备纳米间隙电极的方法是:在基材表面形成线宽度为微米级金属线,将金属线刻蚀成线宽度为纳米级,然后在对应于纳米级线宽的金属线位置,在基材上刻蚀出贯穿的纳米孔,同时蚀断金属线,从而直接在纳米孔孔口形成表面纳米间隙电极。作为本发明的改进,在基材表面形成线宽度为微米级金属线,将金属线刻蚀至线宽度为10-50nm,然后在金属线上刻蚀,形成相对的电极,并在基材上对应于纳米间隙的位置刻蚀出贯穿的纳米孔,最后使金属线向纳米孔边缘生长,从而在纳米孔孔口形成表面纳米间隙电极。
搜索关键词: 纳米 表面 制备 间隙 电极 方法
【主权项】:
一种在纳米孔表面制备纳米间隙电极的方法,其特征在于,在基材表面形成线宽度为微米级金属线,将金属线刻蚀成线宽度为纳米级,然后在对应于纳米级线宽的金属线位置,在基材上刻蚀出贯穿的纳米孔,同时蚀断金属线,从而直接在纳米孔孔口形成表面纳米间隙电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东南大学,未经东南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110285898.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top