[发明专利]在纳米孔表面制备纳米间隙电极的方法无效

专利信息
申请号: 201110285323.6 申请日: 2011-09-23
公开(公告)号: CN102384934A 公开(公告)日: 2012-03-21
发明(设计)人: 吴宏文;刘丽萍;谢骁;叶晓峰;赵志亮;陆祖宏;刘全俊;易红 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: G01N27/327 分类号: G01N27/327;B82Y40/00
代理公司: 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 代理人: 周静
地址: 211189 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及在纳米孔表面制备纳米间隙电极的方法:(1)在基材表面相对的两条金属线的端面上分别修饰核苷酸片段A和核苷酸片段B;(2)引入两端分别与核苷酸片段A和核苷酸片段B互补的双链DNA,使双链DNA和两金属线上的核苷酸片段A和核苷酸片段B结合后,以非折叠状态连接在两金属线之间;(3)在双链DNA骨架上沉积、聚集Ag+,然后使聚集的Ag+还原成Ag纳米线;(4)将Ag纳米线刻蚀穿,并将基材刻蚀形成贯穿的纳米孔,形成表面具有纳米间隙电极的纳米孔。本发明所述方法可以在固态纳米孔孔内制备出纳米间隙电极的方法,从而能够实现二维同时检测生物大分子通过纳米孔所产生的信号变化,广泛地应用各种生物大分子的检测。
搜索关键词: 纳米 表面 制备 间隙 电极 方法
【主权项】:
一种在纳米孔表面制备纳米间隙电极的方法,其特征在于,(1)在基材表面相对的两条金属线的端面上分别修饰核苷酸片段A和核苷酸片段B;(2)引入两端分别与核苷酸片段A和核苷酸片段B互补的双链DNA,使双链DNA和两金属线上的核苷酸片段A和核苷酸片段B结合后,以非折叠状态连接在两金属线之间;(3)在双链DNA骨架上沉积、聚集Ag+,然后使聚集的Ag+还原成Ag纳米线;(4)将Ag纳米线刻蚀穿,并将基材刻蚀形成贯穿的纳米孔,从而形成表面具有纳米间隙电极的纳米孔。
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