[发明专利]聚硅氧烷组合物、聚硅氧烷组合物的制造方法、显示元件的固化膜及其形成方法有效
| 申请号： | 201110282258.1 | 申请日： | 2011-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN102419515A | 公开（公告）日： | 2012-04-18 |
| 发明（设计）人： | 铃木康伸;本田晃久;奥田务;上田二朗 | 申请（专利权）人： | JSR株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/00;G02F1/133 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 11216 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种聚硅氧烷组合物、聚硅氧烷组合物的制造方法、显示元件的固化膜及其形成方法。本发明提供可以使保护膜及层间绝缘膜等显示元件的固化膜所需特性得到高水平且兼顾平衡的聚硅氧烷组合物。该聚硅氧烷组合物含有以下成分[A]～[D]：[A]由(a1)具有自由基聚合性有机基团的硅烷化合物和(a2)不具有自由基聚合性有机基团的硅烷化合物进行共水解缩合而得到的具有自由基聚合性有机基团的聚硅氧烷，该聚硅氧烷中的(a1)具有自由基聚合性有机基团的硅烷化合物的比例超过15摩尔％、[B]不具有自由基聚合性有机基团的聚硅氧烷、[C]自由基聚合引发剂、及[D]溶剂。 | ||
| 搜索关键词： | 聚硅氧烷 组合 制造 方法 显示 元件 固化 及其 形成 | ||
【主权项】：
聚硅氧烷组合物，其中含有以下成分[A]～[D]：[A]由(a1)具有自由基聚合性有机基团的硅烷化合物和(a2)不具有自由基聚合性有机基团的硅烷化合物进行共水解缩合而得到的具有自由基聚合性有机基团的聚硅氧烷，该聚硅氧烷中的(a1)具有自由基聚合性有机基团的硅烷化合物的比例超过15摩尔％；[B]不具有自由基聚合性有机基团的聚硅氧烷；[C]自由基聚合引发剂；及[D]溶剂。
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