[发明专利]多阻态阻变存储器及利用其实现多阻态的方法无效

专利信息
申请号: 201110279718.5 申请日: 2011-09-20
公开(公告)号: CN102306706A 公开(公告)日: 2012-01-04
发明(设计)人: 刘力锋;于迪;高滨;陈冰;张飞飞;康晋锋 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00;H01L27/24;G11C13/00
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王莹
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及半导体制造技术领域,公开了一种多阻态阻变存储器,自上而下包括:顶电极、阻变层和底电极,其中所述阻变层为氧化物。本发明还提供了一种利用上述存储器实现多阻态的方法。本发明多阻态阻变存储器是一种基于SiO2材料的MIM结构的器件,在适当的操作方法下该器件可以产生多级电阻态,能够在一个单元内实现多位存储,且能提高存储器的存储密度。多阻态阻变存储器的阻变层采用基于SiO2的材料,具有工艺简单,与CMOS工艺兼容性好的优点。
搜索关键词: 多阻态阻变 存储器 利用 实现 多阻态 方法
【主权项】:
一种多阻态阻变存储器,其特征在于,自上而下包括:顶电极、阻变层和底电极,其中所述阻变层为氧化物。
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