[发明专利]一种保证非晶硅电池前板玻璃表面刻蚀均匀性的工艺有效
| 申请号： | 201110278435.9 | 申请日： | 2011-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN102336525A | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 郑仁毅;李光滨;戴溥男;褚明渊;陈启聪 | 申请（专利权）人： | 东旭集团有限公司;成都泰轶斯太阳能科技有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 深圳市智科友专利商标事务所 44241 | 代理人： | 曲家彬 |
| 地址： | 050021 *** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 一种保证非晶硅电池前板玻璃表面刻蚀均匀性的工艺，解决现有非晶硅电池的生产技术下电池效率不高的情况，而目前使用的刻蚀方法造成的刻蚀不均匀而不能充分提高太阳光透过率的问题，包括在前板玻璃上制备透明导电薄膜层，以及在导电薄膜层上进行刻蚀工序，本工艺的步骤是：在刻蚀处理前首先在导电薄膜层上镀一层光阻剂层；在光阻剂层的上方定位具有网格结构的透光罩；用曝光机进行曝光刻蚀处理，完成本工艺过程。本发明通过增加光阻剂层，玻璃的雾度有大幅度的提高，同时刻蚀后的玻璃表面更加均匀，透光率也明显提高，使得整个电池的光电转换效率更高，另外，清洁度提高，外观也更加美观。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 保证 非晶硅 电池 玻璃 表面 刻蚀 均匀 工艺 | ||
【主权项】：
一种保证非晶硅电池前板玻璃表面刻蚀均匀性的工艺，包括在前板玻璃(1)上制备透明导电薄膜层(2)，以及在导电薄膜层(2)上进行刻蚀工序，其特征在于：本工艺的步骤包括：a、在刻蚀处理前首先在导电薄膜层(2)上镀一层光阻剂层(3)；b、在光阻剂层(3)的上方定位具有网格结构的透光罩(4)；c、用曝光机进行曝光刻蚀处理，完成本工艺过程。
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