[发明专利]一种防止反应室反气的装置及方法无效
| 申请号： | 201110273693.8 | 申请日： | 2011-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN102337519A | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 刘波波;王省莲;张超奇;陈明 | 申请（专利权）人： | 西安中为光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44 |
| 代理公司： | 西安智大知识产权代理事务所 61215 | 代理人： | 弋才富 |
| 地址： | 710065 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 一种防止反应室反气的装置及方法，该装置包括有反应室，和反应室相连通的尾气泵，在反应室和尾气泵之间设有单向阀，该方法为在反应室和尾气泵之间安装单向阀；当发生紧急停电时，设在蝶阀与尾气泵之间的单向阀能够在第一时间将尾气阻挡在反应室外边，防止反应室被污染，具有结构及操作简单、价格低廉、节约能源的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 防止 反应 室反气 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种防止反应室反气的装置，包括有反应室(1)，和反应室(1)相连通的尾气泵(7)，其特征在于：在反应室(1)和尾气泵(7)之间设有单向阀(6)。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
