[发明专利]用于制造减小龟裂的电极的工艺和材料有效
| 申请号： | 201110272869.8 | 申请日： | 2011-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN102403517A | 公开（公告）日： | 2012-04-04 |
| 发明（设计）人： | B.M.霍夫塔林;J.E.欧维简 | 申请（专利权）人： | 通用汽车环球科技运作有限责任公司 |
| 主分类号： | H01M4/88 | 分类号： | H01M4/88;H01M4/86;H01M4/90 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 薛峰 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及用于制造减小龟裂的电极的工艺和材料。具体地，描述了基本上无裂隙的电极层。基本上无裂隙的电极层包括基底；以及所述基底上基本上无裂隙的电极层，所述电极层包括催化剂，离聚物和层状硅酸盐加强物。还描述了制造该电极层的方法，电极墨成分，并入电极层的膜电极组件。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 减小 龟裂 电极 工艺 材料 | ||
【主权项】：
一种制造基本上无裂隙的电极的方法，包括：在溶剂中混合层状硅酸盐加强物以形成混合物；将所述混合物与催化剂和离聚物混合以形成电极墨；将所述电极墨沉积到基底上；以及干燥所述电极墨以在所述基底上形成基本上无裂隙的电极层。
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