[发明专利]薄膜沉积装置

摘要

本发明公开一种薄膜沉积装置，包括：在输送方向上输送基材的带的输送机、设置为面对基材的薄膜沉积电极、设置在薄膜沉积电极的相对侧处的对电极、薄膜沉积气体的气体供应装置和沿所述基材的平面方向设置为围绕薄膜沉积电极的接地屏蔽。薄膜沉积电极沿输送方向的上游端部比接地屏蔽沿所述基材的输送方向对应于薄膜沉积电极的上游端部的上游端部更靠近基材。

主权项

一种薄膜沉积装置，包括：输送装置，用于在输送方向上输送基材的带；薄膜沉积电极，被设置为面对所述基材；对电极，相对于所述基材设置在所述薄膜沉积电极的相对侧，并且与所述薄膜沉积电极形成电极对；气体供应装置，用于在所述薄膜沉积电极和所述基材之间供应薄膜沉积气体；和接地屏蔽，沿所述基材的平面方向设置为围绕所述薄膜沉积电极，其中，所述薄膜沉积电极的沿所述基材的输送方向的上游基材侧端部比所述接地屏蔽的沿所述基材的输送方向的上游基材侧端部更靠近所述基材，所述接地屏蔽的上游基材侧端部对应于所述薄膜沉积电极的沿所述基材的输送方向的上游基材侧端部。