[发明专利]一种步进光刻设备及光刻曝光方法有效
| 申请号： | 201110241791.3 | 申请日： | 2011-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN102955368A | 公开（公告）日： | 2013-03-06 |
| 发明（设计）人： | 陈勇辉;吴立伟;张俊 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种步进光刻设备，包括：一照明单元，用于提供曝光光束；一工件台，用于支撑一基底在大行程范围内进行六自由度运动；一掩模台，用于支撑一掩模在曝光时候在小行程范围内相对所述工件台同步运动；一投影物镜，用于将掩模上图形按预定比例投射至基底；其特征在于，所述工件台依次步进至曝光场后，所述掩模台同步运动至所述工件台对应的位置并同时曝光。本发明同时公开一种该步进光刻设备的光刻曝光方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 步进 光刻 设备 曝光 方法 | ||
【主权项】：
一种步进光刻设备，包括：一照明单元，用于提供曝光光束；一工件台，用于支撑一基底在大行程范围内进行六自由度运动；一掩模台，用于支撑一掩模在曝光时候在小行程范围内相对所述工件台同步运动；一投影物镜，用于将掩模上图形按预定比例投射至基底；其特征在于，所述工件台依次步进至曝光场后，所述掩模台同步运动至所述工件台对应的位置并同时曝光。
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