[发明专利]提高光刻机工艺效率的方法有效

专利信息
申请号: 201110218748.5 申请日: 2011-08-01
公开(公告)号: CN102231050A 公开(公告)日: 2011-11-02
发明(设计)人: 刘庆锋;王诚 申请(专利权)人: 上海先进半导体制造股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陈亮
地址: 200233 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种提高光刻机工艺效率的方法,光刻机包括光刻机主体、两个晶圆盒进出端口和机械手臂,光刻机主体包括对准机构、曝光机构和等待机构,包括步骤:取片、对准、曝光、等待、送片:由机械手臂从等待机构取回晶圆,送回第一端口;返回取片步骤,当机械手臂从第一端口取走最后一片晶圆后,其开始从第二端口取出第一片晶圆,送入光刻机主体中;当机械手臂从第二端口取走最后一片晶圆后,其又开始从第一端口取出第一片晶圆,送入光刻机主体中;两个晶圆盒进出端口如此循环交替。本发明将两个晶圆盒进出端口均作为送料端口和接收端口,彼此不断循环交替,使离线光刻机可持续不断地工作,缩短其闲置时间,提高工艺效率和产量。
搜索关键词: 提高 光刻 机工 效率 方法
【主权项】:
一种提高光刻机工艺效率的方法,所述光刻机包括一光刻机主体、第一晶圆盒进出端口、第二晶圆盒进出端口和一机械手臂,所述光刻机主体包括一对准机构、一曝光机构和一等待机构,所述方法包括步骤:取片步骤:所述机械手臂从所述第一晶圆盒进出端口取出一片晶圆,送入所述光刻机主体的所述对准机构中;对准步骤:所述对准机构将所述晶圆与光刻掩模版对准;第一传送步骤:将所述晶圆从所述对准机构传送到所述曝光机构中;曝光步骤:所述曝光机构对对准后的所述晶圆进行曝光;第二传送步骤:将所述晶圆从所述曝光机构传送到所述等待机构中;等待步骤:所述等待机构将曝光后的所述晶圆暂时存放,等待所述机械手臂将其取出;送片步骤:所述机械手臂从所述光刻机主体中的所述等待机构中取回所述晶圆,送回所述第一晶圆盒进出端口;返回所述取片步骤,当所述机械手臂从所述第一晶圆盒进出端口取走最后一片晶圆后,其开始从所述第二晶圆盒进出端口取出第一片晶圆,送入所述光刻机主体中;当所述机械手臂从所述第二晶圆盒进出端口取走最后一片晶圆后,其又开始从所述第一晶圆盒进出端口取出第一片晶圆,送入所述光刻机主体中;两个晶圆盒进出端口如此循环交替,直至所有晶圆处理完毕。
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