[发明专利]带电粒子束照射装置、带电粒子束照射方法及带电粒子束照射程序有效
| 申请号： | 201110217159.5 | 申请日： | 2011-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN102380171A | 公开（公告）日： | 2012-03-21 |
| 发明（设计）人： | 桔正则 | 申请（专利权）人： | 住友重机械工业株式会社 |
| 主分类号： | A61N5/10 | 分类号： | A61N5/10;G21K5/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 徐殿军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种带电粒子束照射装置、带电粒子束照射方法及带电粒子束照射程序，其高精确度地控制带电粒子束的照射量。本发明的带电粒子束照射装置(100)具备：扫描磁铁(3)，在被照射物(52)上扫描带电粒子束(R)；照射量设定部(10)，设定带电粒子束(R)在通过扫描磁铁(3)在被照射物上扫描的带电粒子束(R)的扫描线(L)上各目标扫描位置上的照射量；及扫描速度设定部(11)，根据被设定的照射量，设定带电粒子束在各个目标扫描位置上的目标扫描速度。 | ||
| 搜索关键词： | 带电 粒子束 照射 装置 方法 程序 | ||
【主权项】：
一种带电粒子束照射装置，其为对被照射物照射带电粒子束的装置，其特征在于，具备：扫描机构，扫描被照射至所述被照射物的所述带电粒子束；照射量设定机构，设定所述带电粒子束在通过所述扫描机构在所述被照射物上扫描的所述带电粒子束的扫描线上的多个目标扫描位置的每个上的照射量；及扫描速度设定机构，根据通过所述照射量设定机构设定的照射量，设定所述带电粒子束在各个所述目标扫描位置上的目标扫描速度。
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