[发明专利]大面积高度有序多孔阳极氧化铝膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201110207012.8 申请日: 2011-07-22
公开(公告)号: CN102888642A 公开(公告)日: 2013-01-23
发明(设计)人: 宋晔;朱绪飞;叶秋梅;蒋龙飞 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: C25D11/06 分类号: C25D11/06
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 朱显国
地址: 210094 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种大面积高度有序多孔阳极氧化铝膜的制备方法,从发生电击穿的原理出发,采用高浓度的酸性电解液,在较高温度下进行高电流密度的恒流阳极氧化。在这种条件下,可以保证氧化膜均匀稳定快速生长而不会发生电击穿现象,无需对铝箔进行繁杂的预处理工艺,无需进行电化学抛光,只需简单的氢氧化钠去除天然氧化膜的过程,无需采用强力冷却系统,无需对电解液进行搅拌,可以实现常温下、大面积高度有序多孔阳极氧化铝膜的快速稳定生长,膜的生长速率高达4μm·min-1。
搜索关键词: 大面积 高度 有序 多孔 阳极 氧化铝 制备 方法
【主权项】:
一种大面积高度有序多孔阳极氧化铝膜的制备方法,在铝箔表面,通过阳极氧化实现大面积高度有序多孔阳极氧化铝膜的制备,其特征在于:采用高浓度的酸性电解液,在高电解液温度下进行高电流密度的恒流阳极氧化。
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