[发明专利]一种表面具有金属镀层的硅料回收方法无效
申请号: | 201110202614.4 | 申请日: | 2011-07-15 |
公开(公告)号: | CN102351186A | 公开(公告)日: | 2012-02-15 |
发明(设计)人: | 金利民;郜勇军 | 申请(专利权)人: | 浙江矽盛电子有限公司 |
主分类号: | C01B33/02 | 分类号: | C01B33/02;B09B3/00 |
代理公司: | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人: | 舒良 |
地址: | 324300 浙江省开*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及一种表面具有金属镀层的硅料回收方法,该方法是将带有金属镀层的硅料经过下列处理步骤:A:采用纯氢氟酸浸泡一定时间,直到表层的金属镀层发生脱落现象后停止;B:采用王水煮泡一定时间;C:采用普通的硅材料清洗工艺清洗;D:采用离子水超洗。采用本发明,可以有效地将硅料表面具有的金属镀层去除,达到重新回收利用的目的。 | ||
搜索关键词: | 一种 表面 具有 金属 镀层 回收 方法 | ||
【主权项】:
一种表面具有金属镀层的硅料回收方法,其特征在于将带有金属镀层的硅料经过下列处理步骤:A:采用纯氢氟酸浸泡一定时间,直到表层的金属镀层发生脱落现象后停止;B:采用王水煮泡一定时间;C:采用普通的硅材料清洗工艺清洗;D:采用离子水超洗。
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