[发明专利]空间用反射镜碳化硅复合膜的制备方法

摘要

本发明提供一种空间用反射镜碳化硅复合膜的制备方法，特征为：将抛光后的反应烧结碳化硅基体放在沉积室内，先沉积碳化硅晶须薄膜：一路气是来自蒸发釜的三氯甲基硅烷和氢气的混合气，蒸发釜的压力控制在0.2～0.3MPa，混合气总流量控制在200～300ml/min，氢气通过鼓泡法将甲基三氯硅烷送入沉积室，另一路气是流量为800～900ml/min的氩气，采用低压化学气相沉积，沉积室内沉积压力为6～7kPa，沉积温度为1100～1150℃；再沉积碳化硅颗粒薄膜：氢气和三氯甲基硅烷总流量改为300～400ml/min，氩气气流量改为500～600ml/min，沉积室内沉积压力为3～5kPa；最后抛光，在基体上得到碳化硅复合膜。本方法基体与碳化硅复合膜间的残余热应力小，结合性好，有利于制备大尺寸的碳化硅反射镜。

主权项

一种空间用反射镜碳化硅复合膜的制备方法，基体为抛光后的反应烧结碳化硅，其特征在于采用以下步骤：将基体放在沉积室内，先沉积碳化硅晶须薄膜，再沉积碳化硅颗粒薄膜，最后抛光，在基体上得到空间用反射镜碳化硅复合膜；其中：在沉积碳化硅晶须薄膜步骤中，沉积室有两个气路，一路气是以三氯甲基硅烷为反应气，氢气为载气，将甲基三氯硅烷置于水浴加热的蒸发釜中，水浴温度为35～40℃，蒸发釜的压力控制在0.2～0.3MPa，氢气和三氯甲基硅烷总流量控制在200～300ml/min，氢气通过鼓泡法将甲基三氯硅烷送入沉积室，另一路气是通入氩气，氩气气流量为800～900ml/min，采用低压化学气相沉积，沉积室内沉积压力为6～7kPa，沉积温度为1100～1150℃，沉积时间为8～48h，在基体表面沉积碳化硅晶须；在沉积碳化硅颗粒薄膜步骤中，氢气和三氯甲基硅烷总流量改为300～400ml/min，氩气气流量改为500～600ml/min，沉积室内沉积压力为3～5kPa，沉积时间为8～48h，这样在碳化硅晶须薄膜上再沉积碳化硅球形颗粒薄膜。