[发明专利]一种适用于高Tg玻璃布板、无卤素板和高CTICEM-1板的电解铜箔的制备方法有效

专利信息
申请号: 201110135485.1 申请日: 2011-05-23
公开(公告)号: CN102797021A 公开(公告)日: 2012-11-28
发明(设计)人: 郭伟;黄文荣;吴伟安 申请(专利权)人: 建滔(连州)铜箔有限公司
主分类号: C25D1/04 分类号: C25D1/04;C25D3/38
代理公司: 深圳市精英专利事务所 44242 代理人: 李新林
地址: 513400 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种适用于高Tg玻璃布板、无卤素板和高CTICEM-1板的电解铜箔,以及该电解铜箔的制备方法,包括,电解液中铜含量60~90g/L,硫酸含量100~160g/L,温度40~60℃的参数配合,并向电解液中添加添加剂,使电解液流量为50~90m3/h,电流密度4500~10000A/m2条件下进行电沉积,该电解液添加的添加剂包括:Cl-和明胶,添加剂流量为100mL/min~1000mL/min。通过本发明的电解液组合以及电沉积工艺参数的合理的配置,并通过添加合理添加剂,生成低峰值铜箔,并经过特殊粗化工艺来增强其粗化镀层,以提高铜箔与特殊板材的结合力和耐化学性。
搜索关键词: 一种 适用于 tg 玻璃 卤素 cticem 电解 铜箔 制备 方法
【主权项】:
一种适用于高Tg玻璃布板、无卤素环保板和高CTICEM‑1板的电解铜箔的制备方法,其特征在于所述的制备方法包括,电解液中铜含量60~90g/L,硫酸含量100~160g/L,温度40~60℃的参数配合,并向电解液中添加添加剂,使电解液流量为50~90m3/h,电流密度4500~10000A/m2条件下进行电沉积,该电解液添加的添加剂包括:Cl‑和明胶,添加剂流量为100mL/min~1000mL/min。
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