[发明专利]绝缘反光基板无效
申请号: | 201110113080.8 | 申请日: | 2011-04-28 |
公开(公告)号: | CN102248714A | 公开(公告)日: | 2011-11-23 |
发明(设计)人: | 堀田吉则;畠中优介 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | B32B3/24 | 分类号: | B32B3/24;B32B15/04;B32B15/20;B32B33/00;H01L33/48;H01L33/62 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 雒运朴 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种绝缘反光基板,包括基板和设置在基板的表面上的阳极氧化膜,其中:该基板在其表面处具有厚度不小于10μm的铝合金层;铝合金层具有以重量计的99.9%或更高的铝纯度,该铝合金层中的Si和Fe的总含量以重量计不大于0.005%,且该铝合金层中的除Al、Si、Fe、Ga和Zn之外的不可避免的杂质的含量以重量计不大于0.01%;该阳极氧化膜具有多个微孔,每个微孔沿厚度方向从该阳极氧化膜的表面上延伸;并且所述微孔的中心线长度与深度的比例(长度/深度比)为1.0-1.2。 | ||
搜索关键词: | 绝缘 反光 | ||
【主权项】:
一种绝缘反光基板,包括基板和设置在基板的表面上的阳极氧化膜,其中:该基板在其表面处具有厚度不小于10μm的铝合金层;铝合金层具有以重量计的99.9%或更高的铝纯度,该铝合金层中的Si和Fe的总含量以重量计不大于0.005%,且该铝合金层中的除Al、Si、Fe、Ga和Zn之外的不可避免的杂质的含量以重量计不大于0.01%;该阳极氧化膜具有多个微孔,每个微孔沿厚度方向从该阳极氧化膜的表面延伸;并且所述微孔的中心线长度与深度的比例(长度/深度比)为1.0‑1.2。
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