[发明专利]一种混合导通机制的场效应晶体管有效
申请号: | 201110105079.0 | 申请日: | 2011-04-26 |
公开(公告)号: | CN102194884A | 公开(公告)日: | 2011-09-21 |
发明(设计)人: | 黄如;詹瞻;黄芊芊;王阳元 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/08 |
代理公司: | 北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360 | 代理人: | 贾晓玲 |
地址: | 100871*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公布了一种混合导通机制的场效应晶体管,属于CMOS超大规模集成电路(ULSI)中场效应晶体管逻辑器件领域。该混合导通机制场效应晶体管包括源极、漏极、沟道区以及控制栅,其中源极包含隧穿源极与扩散源极两个部分。对于N型器件来说,源区包含P型的隧穿源极,该区域结深较浅。以及N型的扩散源极,该区域结深较深。而对于P型器件来说,源区包含N型浅的隧穿源极以及P型深的扩散源极。隧穿源极与扩散源极同时都在源电极进行电位引出。漏极的掺杂类型与源端扩散源极相同,衬底的掺杂类型要与隧穿源极掺杂类型相同。与现有的TFET相比,本发明可以有效提高器件的导通电流,提高器件的驱动能力。 | ||
搜索关键词: | 一种 混合 机制 场效应 晶体管 | ||
【主权项】:
一种混合导通机制的场效应晶体管,包括源极、漏极、沟道区以及控制栅,其特征在于,源极包含隧穿源极以及扩散源极两个部分,对于N型器件来说,源极包含一P型浅的隧穿源极,和N型深的扩散源极,对于P型器件来说,源极包含一N型浅的隧穿源极,以及P型深的扩散源极,上述隧穿源极与扩散源极同时都在源电极做电位引出,漏极的掺杂类型与扩散源极相同,衬底的掺杂类型要与隧穿源极掺杂类型相同。
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