[发明专利]一种混合导通机制的场效应晶体管有效

专利信息
申请号: 201110105079.0 申请日: 2011-04-26
公开(公告)号: CN102194884A 公开(公告)日: 2011-09-21
发明(设计)人: 黄如;詹瞻;黄芊芊;王阳元 申请(专利权)人: 北京大学
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/08
代理公司: 北京万象新悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11360 代理人: 贾晓玲
地址: 100871*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公布了一种混合导通机制的场效应晶体管,属于CMOS超大规模集成电路(ULSI)中场效应晶体管逻辑器件领域。该混合导通机制场效应晶体管包括源极、漏极、沟道区以及控制栅,其中源极包含隧穿源极与扩散源极两个部分。对于N型器件来说,源区包含P型的隧穿源极,该区域结深较浅。以及N型的扩散源极,该区域结深较深。而对于P型器件来说,源区包含N型浅的隧穿源极以及P型深的扩散源极。隧穿源极与扩散源极同时都在源电极进行电位引出。漏极的掺杂类型与源端扩散源极相同,衬底的掺杂类型要与隧穿源极掺杂类型相同。与现有的TFET相比,本发明可以有效提高器件的导通电流,提高器件的驱动能力。
搜索关键词: 一种 混合 机制 场效应 晶体管
【主权项】:
一种混合导通机制的场效应晶体管,包括源极、漏极、沟道区以及控制栅,其特征在于,源极包含隧穿源极以及扩散源极两个部分,对于N型器件来说,源极包含一P型浅的隧穿源极,和N型深的扩散源极,对于P型器件来说,源极包含一N型浅的隧穿源极,以及P型深的扩散源极,上述隧穿源极与扩散源极同时都在源电极做电位引出,漏极的掺杂类型与扩散源极相同,衬底的掺杂类型要与隧穿源极掺杂类型相同。
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