[发明专利]一种毫米波行波管的栅网的制备方法有效
申请号: | 201110090556.0 | 申请日: | 2011-04-12 |
公开(公告)号: | CN102184821A | 公开(公告)日: | 2011-09-14 |
发明(设计)人: | 吴亚琴;刘洋;朱军方 | 申请(专利权)人: | 南京三乐电子信息产业集团有限公司 |
主分类号: | H01J9/16 | 分类号: | H01J9/16;G03F7/00 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 杨海军 |
地址: | 210009 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种毫米波行波管的栅网的制备方法,该方法首先应用光刻技术在栅网基材上刻蚀得到所需要形状的平面栅网,然后采用专用的球面成型模具将平面栅网加工成型得到球冠形栅网,最后再对栅网进行抛光处理得到。本发明提供的毫米波行波管的栅网的制备方法,可操作性强,工艺设计合理,可以加工制备尺寸小,材料薄、栅网形状复杂、有特殊尺寸要求的球面栅网,所制备得到的栅网表面无毛刺,栅网的打火几率低,栅网合格率高,性能稳定,具有重要的应用价值。 | ||
搜索关键词: | 一种 毫米波 行波 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种毫米波行波管的栅网的制备方法,其特征在于,它包括以下步骤:(a)设计平面栅网的尺寸,根据平面栅网尺寸选取栅网基材,清除栅网基材表面的杂质微粒,在栅网基材上以旋转方式涂覆光刻胶,然后在真空状态下85~120℃热板上烘焙30~60秒,然后将掩模板和光栅图形对准栅网基材上的光刻胶,然后用光学光刻机曝光,曝光后采用旋覆浸没方式进行显影,从而去除非聚合的光刻胶,显影后在100~200℃热板上硬烘1至2分钟,硬烘后采用反应离子法或感应耦合等离子法进行刻蚀,刻蚀后去除光刻胶,得到平面栅网,备用;(b)取步骤(a)得到的平面栅网进行球面成型工艺,首先将下凹模(1)和铜基(2)装入基座(3)内,然后将平面栅网放在铜基(2)上,并将上凹模(4)压在栅网上,并用压紧螺钉(5)压紧后放在电炉上加热至320℃,然后把凸模(6)放入上凹模(4)内后迅速移至油压机上,对凸模(6)上部施加2~5Mpa的压力,并保压1至2分钟后卸载工装,车削栅网外圆,并用铬酸去除铜基(2),得到球冠形栅网,备用; (c)取步骤(b)得到的球冠形栅网,进行电解抛光处理,首先将栅网放入浓度为20%氢氧化钠溶液中煮沸30至40分钟去除栅网表面的油脂和氧化物,然后取出后将栅网浸入铬酸8~12秒,然后取出栅网浸入在比例为1:1:1的水‑氨水‑双氧水溶液中5至8分钟去除栅网表面的黑色金属熔融物,然后取出栅网在H2PO4‑H2SO4‑NiSO4‑H2O的体系溶液中,以电压16至20伏,温度25至50℃抛光2至15秒,抛光后再将栅网浸入铬酸2至5秒,最后脱水,烘干即得。
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