[发明专利]氧化物薄膜晶体管基板有效

专利信息
申请号: 201110062902.4 申请日: 2011-03-16
公开(公告)号: CN102194831A 公开(公告)日: 2011-09-21
发明(设计)人: 尹弼相;李永旭;李禹根 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张波
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种氧化物薄膜晶体管基板。提供了一种能够提高显示器件的显示品质的氧化物薄膜晶体管(TFT)基板以及经由简单的工艺制造该氧化物TFT基板的方法。该氧化物TFT基板包括基板、栅极线、数据线、氧化物TFT以及像素电极。氧化物TFT的氧化物层包括:第一区域,具有半导体特性并包括沟道;以及第二区域,其是导电的并且围绕第一区域。第一区域的一部分电连接到像素电极,第二区域电连接到数据线。
搜索关键词: 氧化物 薄膜晶体管
【主权项】:
一种氧化物薄膜晶体管基板,包括:基板;栅极线,设置在所述基板上;数据线,设置在所述基板上并与所述栅极线绝缘且交叉;氧化物薄膜晶体管,电连接到所述栅极线和所述数据线;以及像素电极,电连接到所述氧化物薄膜晶体管,其中所述氧化物薄膜晶体管的氧化物层包括:第一区域,具有半导体特性并包括沟道;和第二区域,其是导电的并围绕所述第一区域,其中所述第一区域电连接到所述像素电极,所述第二区域电连接到所述数据线。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110062902.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top