[发明专利]同时双轴拉伸膜的制造方法有效
| 申请号： | 201110051844.5 | 申请日： | 2011-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN102205634A | 公开（公告）日： | 2011-10-05 |
| 发明（设计）人： | 坪内健二 | 申请（专利权）人： | 尤尼吉可株式会社 |
| 主分类号： | B29C55/16 | 分类号： | B29C55/16;B29L7/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 苗堃;陈剑华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 极力抑制以同时双轴拉伸法中成为问题的应力衰变为起因的厚度不均的扩大，得到均匀且具有优异品质稳定性的同时双轴拉伸膜。在将未拉伸膜的两端用多个夹子夹持，通过向纵向和横向同时进行双轴拉伸的拉幅法同时双轴拉伸法将膜拉伸时，对于以夹子间距离表示的纵向拉伸倍率而言，使在拉伸过程的任意时刻中，夹子不夹持膜而自由移动时的纵向拉伸倍率轨迹与夹持膜而拉伸移动时的纵向拉伸倍率轨迹的差为最大拉伸倍率的5％以下。 | ||
| 搜索关键词： | 同时 拉伸 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种同时双轴拉伸膜的制造方法，其特征在于，在将未拉伸膜横向的两端部用多个夹子夹持，通过向纵向和横向同时进行双轴拉伸的拉幅法同时双轴拉伸法将膜拉伸时，对于以夹子间距离表示的纵向拉伸倍率而言，使在拉伸过程的任意时刻中，夹子不夹持膜而自由移动时的纵向拉伸倍率轨迹与夹持膜而拉伸移动时的纵向拉伸倍率轨迹的差为最大拉伸倍率的5％以下。
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