[发明专利]投影系统有效
| 申请号： | 201110005401.2 | 申请日： | 2011-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN102591020A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 黄城;张镭;唐德明 | 申请（专利权）人： | 上海丽恒光微电子科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/18 | 分类号： | G02B27/18;G03B21/14;G03B21/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种投影系统，包括第一光源、第二光源、双光路合成器件、显示基板、投影透镜、接收屏幕，其中，所述第一光源发出的第一入射光沿第一方向由双光路合成器件的第一入射面进入双光路合成器件，沿第一方向从双光路合成器件的出射面出射；所述第二光源发出的第二入射光沿第二方向由双光路合成器件的第二入射面进入双光路合成器件，在双光路合成器件内发生反射并沿第一方向从所述出射面出射；所述显示基板对沿第一方向从双光路合成器件出射的光进行处理，形成携带图像信息的调制光；所述调制光经由投影透镜后将图像投影在接收屏幕上。所述投影系统至少包括两个光源，可获得较高亮度的投影图像。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 系统 | ||
【主权项】：
一种投影系统，其特征在于，包括第一光源、第二光源、双光路合成器件、显示基板、投影透镜、接收屏幕，其中，所述第一光源发出的第一入射光沿第一方向由双光路合成器件的第一入射面进入双光路合成器件，沿第一方向从双光路合成器件的出射面出射；所述第二光源发出的第二入射光沿第二方向由双光路合成器件的第二入射面进入双光路合成器件，在双光路合成器件内发生反射并沿第一方向从所述出射面出射；所述显示基板对沿第一方向从双光路合成器件出射的光进行处理，形成携带图像信息的调制光；所述调制光经由投影透镜后将图像投影在接收屏幕上。
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