[发明专利]金属-陶瓷-基板无效
| 申请号： | 201080019205.4 | 申请日： | 2010-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN102421725A | 公开（公告）日： | 2012-04-18 |
| 发明（设计）人： | J·舒尔茨-哈德;L·米勒 | 申请（专利权）人： | 库拉米克电子学有限公司 |
| 主分类号： | C04B37/02 | 分类号： | C04B37/02;C04B41/90;B32B18/00;C04B41/52;H01L23/373;H05K1/03;H05K3/38 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 柳冀 |
| 地址： | 德国埃*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及金属-陶瓷-基板，所述基板具有多层、板状陶瓷材料，且具有至少一个设置在所述陶瓷材料的表面侧的金属化，所述金属化通过直接键合(DCB方法)或活性焊料与陶瓷材料结合，其中所述陶瓷材料由至少一个由氮化硅构成的基层或内层构成，并且其中设置有至少一个金属化的陶瓷材料的表面侧由施加在至少一个基层上的由氧化陶瓷构成的中间层形成。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 陶瓷 基板 | ||
【主权项】：
金属‑陶瓷‑基板，所述基板具有多层、板状陶瓷材料(2)，且具有至少一个设置在所述陶瓷材料的表面侧的金属化(3，4)，所述金属化通过直接键合(DCB方法)或活性焊料与陶瓷材料结合，其中所述陶瓷材料(2)由至少一个由氮化硅‑陶瓷构成的内层或基层(5)构成，并且其中所述设置有至少一个金属化(3，4)的陶瓷材料(2)的表面侧由施加在至少一个基层(5)上的由氧化陶瓷构成的中间层(6，7)形成，其特征在于，所述至少一个中间层(6，7)是由锆‑氧化物构成的层和/或硅酸盐层。
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