[发明专利]基于有机物的平面基材,该基材的应用与方法无效

专利信息
申请号: 201080015308.3 申请日: 2010-04-03
公开(公告)号: CN102388176A 公开(公告)日: 2012-03-21
发明(设计)人: N.瓦莱拉;E.哈比赫 申请(专利权)人: 卡姆造纸集团瑞士股份公司
主分类号: D06N3/00 分类号: D06N3/00;D21H27/00;B32B27/12;D21H21/48;G06K19/02;G06K19/077
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 石克虎;林森
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要: 发明涉及一种基于有机物的平面基材,此基材的至少一面经涂覆,且经涂覆面表面的表面粗糙度<100nm。此基材特别应用于电子元件和/或集成电路的生产。根据本发明方法,该方法用于生产具有至少一个电子元件和/或至少一个集成电路的在至少一面经涂覆的基于有机物的基材,将计划用于:生产经涂覆面的表面粗糙度<100nm的基材,通过印刷的方式将电子元件和/或集成电路施加到基材经涂覆的表面上。
搜索关键词: 基于 有机物 平面 基材 应用 方法
【主权项】:
基于有机物的平面基材,其中该基材在至少一面上经涂覆,且涂布面表面的表面粗糙度< 100 nm。
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