[发明专利]连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统无效
| 申请号： | 201010298327.3 | 申请日： | 2010-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN101962755A | 公开（公告）日： | 2011-02-02 |
| 发明（设计）人： | 金烈 | 申请（专利权）人： | 深圳市金凯新瑞光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/34 |
| 代理公司： | 深圳市惠邦知识产权代理事务所 44271 | 代理人： | 赵彦雄 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及真空镀膜技术，尤其涉及一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统,包括至少二个溅射室，即第一溅射室和第二溅射室；还包括过度室，过度室设置于第一溅射室和第二溅射室之间；第一溅射室与过度室之间具有供被镀物连续通过的第一通道，过度室与第二溅射室之间具有供被镀物连续通过的第二通道；过度室连接真空发生装置，过度室的真空度大于第一溅射室的真空度，过度室的真空度也大于第二溅射室的真空度；过度室还具有进气孔和排气孔，进气孔和排气孔均设置于第一通道与第二通道之间，气体流过进气孔流入排气孔，在第一通道与第二通道之间构成风幕。本发明提供一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，以便实现连续式多室多气氛镀膜。 | ||
| 搜索关键词： | 连续 式多室 溅射 镀膜 气氛 隔离 系统 | ||
【主权项】：
一种连续式多室溅射镀膜室间气氛隔离系统，包括至少二个溅射室，即第一溅射室和第二溅射室；其特征在于：还包括过度室，所述过度室设置于所述第一溅射室和所述第二溅射室之间；所述第一溅射室与所述过度室之间具有供被镀物连续通过的第一通道，所述过度室与所述第二溅射室之间具有供被镀物连续通过的第二通道；所述过度室连接真空发生装置，所述过度室的真空度大于所述第一溅射室的真空度，所述过度室的真空度也大于所述第二溅射室的真空度；所述过度室还具有进气孔和排气孔，所述进气孔和所述排气孔均设置于所述第一通道与所述第二通道之间，气体流过所述进气孔流入所述排气孔，在所述第一通道与所述第二通道之间构成风幕。
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