[发明专利]衬底抛光设备和方法有效

专利信息
申请号: 201010271684.0 申请日: 2007-10-08
公开(公告)号: CN101985208A 公开(公告)日: 2011-03-16
发明(设计)人: 胜冈诚司;关本雅彦;国泽淳次;宫崎充;渡边辉行;小林贤一;粂川正行;横山俊夫 申请(专利权)人: 株式会社荏原制作所
主分类号: B24B29/00 分类号: B24B29/00;B24B57/02;B24B41/04;B24B41/06
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 蔡洪贵
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种衬底抛光设备包括衬底保持机构和抛光机构,所述衬底保持机构包括用于保持待抛光衬底的机头,所述抛光机构包括上面安装有抛光垫的抛光台。由所述机头保持的衬底被压靠所述抛光台上的所述抛光工具,以通过所述衬底和所述抛光工具的相对运动抛光所述衬底。所述衬底抛光设备还包括衬底传递机构,所述衬底传递机构用于将待抛光的衬底送到所述机头并接收已抛光的衬底。所述衬底传递机构包括用于接收待抛光衬底的待抛光衬底接收器和用于接收已抛光衬底的已抛光衬底接收器。
搜索关键词: 衬底 抛光 设备 方法
【主权项】:
一种在衬底被抛光之后通过具有多个衬底支撑件的衬底接收器从机头接收已抛光衬底的方法,所述衬底在真空吸引作用下保持在所述机头的衬底吸引表面上、压靠安装在所述抛光台上的抛光工具、且通过所述衬底和所述抛光工具的相对运动被抛光,所述方法包括:利用保持在相同垂直位置的所述衬底支撑件支撑由所述机头保持的已抛光衬底;降低所述衬底支撑件中选择的衬底支撑件的垂直位置并释放所述机头的真空吸引以使所述衬底从所述衬底吸引表面移开,从而使所述衬底倾斜;通过所述衬底支撑件接收所述倾斜的衬底;降低所述衬底支撑件中其余衬底支撑件的垂直位置而与所述衬底支撑件中选择的衬底支撑件的垂直位置对齐,从而使所述衬底水平;以及由所述衬底支撑件支撑水平的衬底。
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