[发明专利]一种掩模版附着颗粒物比对管理方法无效
| 申请号： | 201010216466.7 | 申请日： | 2010-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN102314072A | 公开（公告）日： | 2012-01-11 |
| 发明（设计）人： | 樊乡;车永强;郭伟凯 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种掩模版附着颗粒物比对管理方法，包括以下步骤：依据掩模版的等级设定不同等级的掩模版上附着颗粒物的比对标准；将掩模版送入扫描机台中进行颗粒物扫描，得出扫描结果；依据掩模版的等级选择已设定的相应等级的掩模版附着颗粒物的比对标准，并将扫描结果同该比对标准进行比较，若符合标准则该掩模版被列入待分配掩模版阵列，若不符合标准则该掩模版被列入待清洁掩模版阵列。本发明方法可精细准确的确定不同等级的掩模版上的颗粒物是否超标且可节约大量人力成本，方便操作，提高了工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 模版 附着 颗粒 管理 方法 | ||
【主权项】：
一种掩模版附着颗粒物比对管理方法，包括以下步骤：依据掩模版的等级设定不同等级的掩模版上附着颗粒物的比对标准；将掩模版送入扫描机台中进行颗粒物扫描，得出扫描结果；依据掩模版的等级选择已设定的相应等级的掩模版附着颗粒物的比对标准，并将扫描结果同该比对标准进行比较，若符合标准则该掩模版被列入待分配掩模版阵列，若不符合标准则该掩模版被列入待清洁掩模版阵列。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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