[发明专利]非对称二次阳极氧化制备高度有序氧化铝模板的方法无效
| 申请号： | 201010195477.1 | 申请日： | 2010-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN101831682A | 公开（公告）日： | 2010-09-15 |
| 发明（设计）人： | 秦刚;郭光华;何凤英 | 申请（专利权）人： | 中南大学 |
| 主分类号： | C25D11/12 | 分类号： | C25D11/12;C25D11/16 |
| 代理公司： | 长沙市融智专利事务所 43114 | 代理人： | 黄美成 |
| 地址： | 410083 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种非对称二次阳极氧化制备高度有序氧化铝模板的方法，其特征在于，包括以下步骤：将高纯铝片进行高温退火处理，然后再进行电化学抛光处理；所述的高纯铝片为纯度大于或等于99.99wt％的铝片；以经过上一步骤处理后的高纯铝片为阳极，石墨为阴极，在电解液中进行第一次阳极氧化；将第一次阳极氧化后的高纯铝片在磷酸和铬酸混合溶液中进行浸泡以除去高纯铝片的表面氧化膜；在不同于第一次阳极氧化的电解液中进行第二次阳极氧化得到氧化铝模板，再将所得氧化铝模板清洗后即制得高度有序氧化铝模板。本发明方法扩大了在一种电解液中制备氧化铝模板的氧化电压范围，且更大程度上实现对模板孔间距和孔径的调制。 | ||
| 搜索关键词： | 对称 二次 阳极 氧化 制备 高度 有序 氧化铝 模板 方法 | ||
【主权项】：
一种非对称二次阳极氧化制备高度有序氧化铝模板的方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)将高纯铝片进行高温退火处理，然后再进行电化学抛光处理；所述的高纯铝片为纯度大于或等于99.99wt％的铝片；(2)以经过步骤(1)处理后的高纯铝片为阳极，石墨为阴极，在电解液中进行第一次阳极氧化；(3)将第一次阳极氧化后的高纯铝片在浓度为5-8wt％磷酸和1.5-2.0wt％铬酸混合溶液中进行浸泡以除去高纯铝片的表面氧化膜；(4)在不同于第一次阳极氧化的电解液中进行第二次阳极氧化得到氧化铝模板，再将所得氧化铝模板清洗后即制得高度有序氧化铝模板。
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