[发明专利]具有前驱物源的喷头设计无效
| 申请号： | 201010180104.7 | 申请日： | 2008-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN101831629A | 公开（公告）日： | 2010-09-15 |
| 发明（设计）人： | 洛里·D·华盛顿;奥尔加·克里莱克;尤里·梅尔尼克;雅各布·格雷森;桑迪普·尼杰霍安 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/34 | 分类号： | C23C16/34;C23C16/455;C23C16/46;H01L21/205 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;杨文娟 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了具有前驱物源的喷头设计，更具体地提供一种可以用于沉积工艺中的方法和装置。一种在一个或多个衬底上形成金属氮化物层的方法，包括：在至少部分由处理腔的表面限定的处理部中放置一个或多个衬底；在该处理部中放置所述一个或多个衬底之前，使用加热源加热该处理腔的表面；在将所述一个或多个衬底暴露于氮前驱物气体和金属卤化物气体之前，使用一个或多个灯加热放置在该处理部中的一个或多个衬底；将金属源暴露于包含氯(Cl2)的第一处理气体以形成金属卤化物气体，其中该金属源包括选自由镓、铝和铟构成的组群中的元素；以及将一个或多个衬底暴露于该氮前驱物气体和金属卤化物气体以在一个或多个衬底的表面上形成金属氮化物层。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 前驱 喷头 设计 | ||
【主权项】：
一种在一个或多个衬底上形成金属氮化物层的方法，包括：在至少部分由处理腔的表面限定的处理部中放置一个或多个衬底；在该处理部中放置所述一个或多个衬底之前，使用加热源加热该处理腔的表面；在将所述一个或多个衬底暴露于氮前驱物气体和金属卤化物气体之前，使用一个或多个灯加热放置在该处理部中的一个或多个衬底；将金属源暴露于包含氯(Cl2)的第一处理气体以形成金属卤化物气体，其中该金属源包括选自由镓、铝和铟构成的组群中的元素；以及将所述一个或多个衬底暴露于该氮前驱物气体和金属卤化物气体以在所述一个或多个衬底的表面上形成金属氮化物层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料股份有限公司，未经应用材料股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201010180104.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：硅单晶的生长装置
- 下一篇：抗轮状病毒感染的组合物及制备该组合物的方法
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
